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在電子元器件生產過程中，超純水設備關鍵作為清理用水及用于配置各種各樣水溶液、料漿，不同類型的電子元器件生產制造用水對的水質規(guī)定也不盡相同，所以大多數公司都選擇性價比比較高超純水設備。傳統超純水系統制得工藝采用的是陽陰環(huán)氧樹脂交換設備，該工藝的缺陷取決于環(huán)氧樹脂使用一段時間以后要定期再生。
伴隨著膜分離設備的持續(xù)完善，反滲透純凈水設備常選用反滲透工藝，或者選用反滲透之后再通過EDI及打磨拋光混床工藝來制得超純水系統，出水導電率之后可以達到18.2MΩ，滿足電鍍工藝涂裝行業(yè)的用水要求。
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