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超純水設(shè)備中EDI模塊的滲水通過預(yù)處理和反滲透系統(tǒng)在很大的程度上降低了膜塊內(nèi)部堵塞的機(jī)會，但隨著機(jī)器運行時間的延伸，EDI膜塊內(nèi)部水路還是有可能產(chǎn)生堵塞。碰到上述情況，必須對超純水設(shè)備中EDI模塊開展清洗，使其恢復(fù)到原先的技術(shù)特點。
超純水設(shè)備中EDI模塊要怎么清洗?
1、線上清洗：線上清洗是指對反滲透系統(tǒng)整體進(jìn)行清洗，膜元器件不用取下壓力容器，一般在很大系統(tǒng)中方案設(shè)計運用。此清洗方式使用方便便捷，速度快，缺點為清洗不完整，預(yù)期效果不理想。
2、線下清洗：線下清洗是指將超純水設(shè)備中EDI模塊從反滲透壓力容器中卸除，放進(jìn)專用清洗機(jī)械設(shè)備中開展清洗，此清洗方式使用方便便捷，清洗徹底、具體效果好。
超純水設(shè)備中EDI模塊清洗常見問題
1、必須清洗的機(jī)器管路一定要與其它連接設(shè)備連接管路徹底隔離的。
2、必須清洗的機(jī)器其電源一定要徹底斷開且有“已經(jīng)操作，不可配電”的安全警示。
3、全部清洗環(huán)節(jié)中清洗的工作壓力不得超過0.15MPa。
4、禁止運用甲苯或別的的有機(jī)溶液。
5、維護(hù)安全性標(biāo)志。
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